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1. 政策背景
光刻胶是半导体生产的核心材料，但一直以来90%以上都是依赖进口。“甲”公司通过“基于专利的研发”战略，利用从现有专利中得出的最佳成分组合备选，提前开发出了EUV（极紫外光刻）光刻胶。
“乙”公司为克服日本的出口限制，亟需开发高纯度氟化氢工程技术。“乙”公司通过“基于专利的研发”战略，消除了专利壁垒侵权的不确定性，确保了2项核心专利，确立了提纯技术开发的方向，最终实现了高纯度氟化氢的国产化。
最近中美霸权之争引发的技术主导权竞争，以半导体为中心扩大至国家间的技术、安全同盟。在此情况下，韩国致力于选定战略技术，集中国家力量保障战略技术。KIPO此次支援是为了配合韩国政府对战略技术的研发投资基调，从国家安保、供应链、新产业等角度出发，为提高半导体、电池等6个重要技术领域的研发效率而做准备。
2. 具体内容
KIPO为战略制定了两项目标：
（1）强化与他国存在差距的战略技术竞争力，涵盖半导体、显示器，二次电池，氢3个领域，涉及17个项目；
（2）抢占未来技术，涵盖尖端移动手段（Mobility），人工智能、机器人，网络安全3个领域，涉及17个项目。
KIPO共选定了34家机构，包括MAT Plus（半导体，显示器），INZICONTROLS（二次电池）等25家中小、中坚企业和韩国能源技术研究院（氢），韩国国民大学产学合作团（人工智能，机器人）等9所大学和公共研究机构。
对于此次入选的34家机构，将由专利战略专家和专利分析机构组成的专门团队，对近5.2亿件专利大数据进行深入分析，提供专利壁垒应对策略，最佳研发方向，优秀专利确保方案等综合性针对型的专利战略。KIPO“基于专利的研发”战略支援项目所创造的专利技术，与一般研发项目相比，技术在产业界的应用价值更高。
3. 预期成效
过去5年（2016-2020年）专利成果数据显示，从专利成果来看，IP-R&D支援企业的优秀专利[1]比率（6.3%）约为政府R&D中小企业（3.7%）的1.7倍；IP-R&D支援企业的海外专利[2]（3.6%）约为政府R&D中小企业（1.7%）的2.1倍。
从利用成果来看，获得IP-R&D支援的大学、公共研究机构的专利转移率（8.3%）约为未得到支援的大学、公共研究机构（6.5%）的1.3倍；IP-R&D支援的大学、公共研究机构的每项技术转移合同的技术费用（8,270万韩元）约为未得到支援的大学、公共研究机构（2,140万韩元）的3.9倍。
[1] 优秀专利：专利分析评估系统（SMART3）9级评估结果中的前3级专利。
[2] 海外专利：同时向美国、日本、欧洲知识产权局申请的同族专利。
姚梦楠 编译
来源：
https://www.kipo.go.kr/ko/kpoBultnDetail.do?menuCd=SCD0200618&ntatcSeq=19554&aprchId=BUT0000029&sysCd=SCD02
原文标题：반도체, 2차전지 등 6대 전략기술 분야 ‘특허 기반 연구개발’ 전략 지원
检索日期：2022年8月30日
文章来源：中科院知识产权信息（微信订阅号：casipr）
文章来源：中科院知识产权信息（微信订阅号：casipr）
