主要结论:
(1)2021年,专利申请呈现回升,专利申请审查请求数量明显改善,PCT申请依然呈现下降;外观设计申请呈现上升;商标申请呈现回升。
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(2)日美欧中韩专利、外观设计和商标申请量变化对比:中国专利申请量在2019年放缓,但2020年再次呈现增长,PCT申请量大幅增长;日本外观设计申请量比其他国家少;美国和中国商标注册申请量大幅增长。
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(3)专利平均首次审查时间(2023年目标)不超过10个月,专利授权的平均时间间隔不超过14个月;外观设计平均首次审查时间为6至7个月,自2015年以来,用户外观设计审查质量评价调查中,对外观设计审查总体质量“满意”和“比较满意”的比例为67.7%;预计2022年底,商标平均首次审查时间和专利授权的平均时间间隔将分别缩短为6.5个月、8个月;商标审查质量评价调查中,“一般”及以上评价的比例为91.7%,“满意”和“比较满意”的比例为49.9%。
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王紫薇 编译
来源:https://www.jpo.go.jp/resources/shingikai/sangyo-kouzou/shousai/chizai_bunkakai/document/17-shiryou/02.pdf
原文标题:出願·審査の現状
检索日期:2022年3月3日
文章来源:中科院知识产权信息(微信订阅号:casipr)
来源:https://www.jpo.go.jp/resources/shingikai/sangyo-kouzou/shousai/chizai_bunkakai/document/17-shiryou/02.pdf
原文标题:出願·審査の現状
检索日期:2022年3月3日
文章来源:中科院知识产权信息(微信订阅号:casipr)