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主要结论：
（1）2021年，专利申请呈现回升，专利申请审查请求数量明显改善，PCT申请依然呈现下降；外观设计申请呈现上升；商标申请呈现回升。
（2）日美欧中韩专利、外观设计和商标申请量变化对比：中国专利申请量在2019年放缓，但2020年再次呈现增长，PCT申请量大幅增长；日本外观设计申请量比其他国家少；美国和中国商标注册申请量大幅增长。
（3）专利平均首次审查时间（2023年目标）不超过10个月，专利授权的平均时间间隔不超过14个月；外观设计平均首次审查时间为6至7个月，自2015年以来，用户外观设计审查质量评价调查中，对外观设计审查总体质量“满意”和“比较满意”的比例为67.7%；预计2022年底，商标平均首次审查时间和专利授权的平均时间间隔将分别缩短为6.5个月、8个月；商标审查质量评价调查中，“一般”及以上评价的比例为91.7%，“满意”和“比较满意”的比例为49.9%。
王紫薇 编译
来源：https://www.jpo.go.jp/resources/shingikai/sangyo-kouzou/shousai/chizai_bunkakai/document/17-shiryou/02.pdf
原文标题：出願·審査の現状
检索日期：2022年3月3日
文章来源：中科院知识产权信息（微信订阅号：casipr）
来源：https://www.jpo.go.jp/resources/shingikai/sangyo-kouzou/shousai/chizai_bunkakai/document/17-shiryou/02.pdf
原文标题：出願·審査の現状
检索日期：2022年3月3日
文章来源：中科院知识产权信息（微信订阅号：casipr）
